汎銓：光損定位成矽光子與CPO良率關鍵，強調專利布局與智慧財產權維護
汎銓指出，光損定位技術已成矽光子、CPO與高速光通訊量產檢測關鍵，並公開強調已取得多國專利，將持續透過服務、設備銷售與專利授權推進市場布局。
【20260618 企業策略】【汎銓科技】【光損定位成矽光子與CPO良率關鍵】 發布者：a03751101 汎銓科技18日針對同業積極布局矽光子檢測市場公開說明，強調光損定位技術已是矽光子、CPO與高速光通訊元件開發及量產檢測的重要環節。🔍 公司表示，已正式對涉及侵權廠商提起專利侵權訴訟，案件目前進入司法程序，相關事實與法律責任仍待法院審理認定。汎銓尊重司法程序，但也不排除採取必要措施，以維護智慧財產權與股東權益。 汎銓指出，旗下光損偵測裝置相關技術，可快速定位光訊號傳輸過程中的漏光與損耗位置，協助客戶提升研發效率與量產良率。公司並已取得台灣、美國、日本及韓國的「光損偵測裝置」發明專利。📈 在業務布局上，汎銓的矽光子業務已建立「分析服務、設備銷售及專利授權」三大商業模式，並持續推動「MSS HG」光損定位設備商品化，目標是於2026年9月完成銷售版設備，並朝年底前正式銷售邁進。 汎銓看好AI資料中心、高速光通訊與CPO持續發展，認為光損定位與漏光分析將成為未來產業的基礎技術。公司也強調，會持續深化專利布局與技術領先優勢，掌握下一波矽光子產業成長契機。🚀 #汎銓科技 #矽光子 #CPO #光損定位 #高速光通訊 #專利授權 #智慧財產權 出處：科技新報 汎銓：光損定位成矽光子與CPO良率關鍵，強調專利布局與智慧財產權維護 — AI 生成解析圖
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